. В современных технологиях производства микросхем используются фотомаски, которые изготавливаются с помощью электронных пучков. Исследователям из МТИ удалось добиться сужения вытравливаемых линий за счет объединения лучей света с различной длиной волны. В предложенном ими методе маски не нужны. При этом используются шаблоны интерференции, так называемые зонные пластинки Френеля, когда лучи с разной длиной волны в одних случаях усиливают, а в других ослабляют друг друга. Освещением пластинок управляют микромеханические элементы под контролем компьютера. Коммерческого использования этой технологии следует ждать не раньше чем через несколько лет, но теоретически она могла бы помочь производителям чипов размещать транзисторы на расстоянии буквально одной молекулы (или двух-трех нанометров) друг от друга. Поисками путей коммерческого применения предложенной технологии будет заниматься выделившаяся из МТИ компания Lumarray.

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями