Новая технология позволит создавать микропроцессоры с быстродействием в десятки раз выше ныне существующих, а также микросхемы памяти столь же увеличенного объема. Ученые продемонстрировали результаты своих многолетних исследований вакуумного ультрафиолетового излучения, направленные на поиск новых способов формирования суперминиатюрных элементов на кремниевой подложке. Этот процесс происходит в вакууме с использованием полученной с помощью лазера плазмы для генерации невидимого человеческим глазом излучения, а также с помощью сложной системы зеркал, исполняющих роль линз для проецирования трафарета микросхемы на кремниевую подложку. Предполагается, что используемая сейчас литографическая технология позволит производителям наносить схемы с минимальной шириной проводников 0,1 мк.

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями