Белорусское НПО «Интеграл», разработчик и производитель микроэлектронных компонентов, к концу 2008 года введет в строй субмикронное производство интегральных микросхем с проектными нормами 350–500 нм (0,35–0,5 мкм). Проект, уже находящийся на завершающей стадии, реализуется на базе «Завода полупроводниковых приборов» в соответствии с Государственной программой инновационного развития на 2007–2010 годы. Выйти на проектную мощность планируется в 2010 году.
 
18 ноября на «Белорусском инвестиционном форуме» в Лондоне «Интеграл» представит бизнес-план организации производства интегральных микросхем с проектными нормами 180 нм мощностью около 3 тыс. пластин диаметром 200 мм в месяц. На эти цели потребуется около 250 млн долл. Срок реализации проекта — 3 года, ожидаемый период окупаемости — через 5 лет.
 
Между тем в России, благодаря совместным инвестициям «Ситроникс-Нанотехнологии» и государства в размере 58,4 млрд руб., в Зеленограде строится завод по производству интегральных микросхем на пластинах диаметром 300 мм с проектными нормами 45–65 нм — такими же, как используются в Intel и AMD. Планируемая мощность выпуска — 10 тыс. пластин в месяц, окупаемость инвестиций — через десять лет.

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями