В Китае началось массовое производство собственного оборудования для производства микросхем на основе технологии иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолетовом излучении (immersion deep-ultraviolet, DUV). Его возглавила государственная компания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, объединившая команды ведущих китайских стартапов в области литографии. По данным The Information, в этом году планируется выпустить около пяти машин DUV, которые будут поставлены ведущим китайским производителям чипов SMIC и CXMT, а также 20 машин — в 2027-м. DUV — зрелая технология, широко применяемая для части передовых техпроцессов производства чипов, использующая обычно длины волн 193 нм или 248 нм. Она более старая, чем технология экстремального ультрафиолета (Extreme Ultraviolet, EUV, 13,5 нм), для которой требуется гораздо более сложное и дорогое оборудование. В США запретили Китаю покупать новейшие литографические EUV-системы, а экспортный контроль Нидерландов ограничил доступ Китая к некоторым передовым системам DUV. По мнению экспертов, машины DUV компании Aishengna пока далеки от моделей голландской ASML, длительное время доминировавшей на этом рынке. Но в перспективе Aishengna может стать альтернативным источником оборудования для китайских производителей чипов, если власти западных стран сохранят ограничения. Аналитики считают, что производство собственного оборудования — важный шаг в рамках общенациональной инициативы Пекина по обеспечению самодостаточности в сфере производства полупроводников.
