, с помощью системы литографии последнего поколения за счет преломляющих свойств воды можно будет формировать элементы, имеющие топологический размер 45 нм, утверждает Брюс Смит, профессор института. Вода оказалась идеальной жидкостью для иммерсионной литографии благодаря тому, что она не вступает с реакцию с веществами, применяемыми в полупроводниковом производстве, а также в связи с тем, что ее способность к преломлению достигает пика именно на тех длинах волн, которые имеют лазеры, используемые сегодня для формирования микросхем. Таким образом преодолев трудности, связанные, в частности, с очисткой воды, и отладив предложенную Смитом методику, можно было бы перейти на выпуск микросхем следующего поколения без традиционных для такого перехода крупных расходов на обновление литографического оборудования.

Служба новостей IDG, Бостон

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями