В 2000 году группа ученых университета Нью-Мексико получила патент США за номером 6042998, озаглавленный "Метод и устройство для расширения диапазона пространственных частот в фотолитографических изображениях". Этот метод касается фотолитографии с двойным формированием рисунка – технологии, позволяющей повысить разрешение литографического процесса и получить микросхемы с характерным масштабом элементов в 45 нм и менее. Пять компаний: Toshiba, NEC, Samsung, Hynix и Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. подписали с STC.UNM лицензионные соглашения, однако Intel до сих пор этого не сделала. Представители STC.UNM утверждают, что пытались вести переговоры с Intel, но в итоге у них не осталось другого способа защиты своей интеллектуальной собственности, кроме подачи судебного иска. Компания просит признать факт нарушения патентных прав и взыскать с Intel соответствующую компенсацию.

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями