Графен — слой углерода толщиной в один атом — считается перспективным кандидатом на роль основы микроэлектронных компонентов будущего благодаря своим уникальным свойствам: чрезвычайной твердости, сопротивлению разрыву, способности проводить электрический ток и тепло. Чтобы в графене появились запрещенные энергетические зоны, придающие ему свойства полупроводника, из него формируют полоски толщиной менее 10 нм. До сих пор такие полоски изготавливались путем «нарезки» из графенового листа большой площади. 
Ученые Швейцарской лаборатории материаловедения, НИИ полимеров им. Макса Планка, Швейцарской высшей технической школы в Цюрихе и университетов Цюриха и Берна изобрели способ изготовления графеновых нанополос путем выращивания с помощью несложного химического процесса. Исследователи распределяют специально разработанные галогензамещенные полимеры на поверхности золота или серебра в вакууме, чтобы те формировали полифениленовые цепи, а затем удаляют из этих цепей атомы водорода под нагреванием. Меняя исходные мономеры, можно получать графеновые полоски 1 нм в ширину и до 50 нм в длину с различной пространственной структурой.

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями