улучшить разрешающую способность оптической иммерсионной литографии, полагающейся на дальнее УФ-излучение, до 29,9 нм. Литографическая установка, получившая название Nemo, создана исследователями IBM совместно со специалистами компании JSR Micro. Система с помощью пересекающихся лучей лазера создает интерференционную картину, расстояние между полосами в которой втрое меньше, чем обеспечивает современное оборудование литографии. По словам исследователей, новая установка позволит вести изучение, пробы и оптимизацию различных жидкостей с высоким коэффициентом преломления. Разработка будет представлена на этой неделе на конференции Microlithography 2006.

Служба новостей IDG, Париж

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями