США добились от Японии и Нидерландов согласия ограничить экспорт в Китай литографического оборудования дальнего ультрафиолетового спектра (DUV), сообщает агентство Bloomberg. Еще раньше США запретили поставки в Китай более современного литографического оборудования экстремально дальнего ультрафиолетового спектра (EUV), и Нидерланды поддержали этот запрет.

Единственным в мире производителем литографического оборудования для EUV является нидерландская компания ASML. Оборудование для EUV выпускает как ASML, так и другие компании, в том числе японские Canon, Nikon и Tokyo Electron. В отличие от самых современных микросхем (например, процессоров для iPhone), для изготовления которых применяется EUV, микросхемы, изготовленные по технологии DUV, используются в основном в автомобильной и промышленной электронике.

Переговоры проходили за закрытыми дверьми, и об их результатах официально не сообщается. По сведениям агентства Bloomberg, Нидерланды расширят ограничения на экспорт продукции ASML, а Япония — на экспорт продукции Nikon. В Китае принята программа перевода микроэлектронной промышленности на оборудование китайского производства, но копирование нужного оборудования оказалось сложной задачей, отмечают аналитики.