Недавно выпущенный новый серверный процессор Intel Xeon серии 5500, основанный на микроархитектуре Nehalem, позволяет добиться более высокой производительности, уменьшить габариты и энергопотребление систем. Это позволяет увеличить количество транзисторов на единицу площади кристалла при одновременном снижении токов утечки, уменьшить потребление энергии и тепловыделение. В этих процессорах используются транзисторы с затвором Hi-K второго поколения, где сведены к минимуму токи утечки и туннелирование электронов. Благодаря этому каждый логический элемент можно переключать быстрее, повысив производительность и энергоэффективность. 32-нанометровый полупроводниковый слой делает практически невозможным использование традиционных методов в производстве процессоров. В связи с этим Intel переходит на иммерсионную литографию, но такой способ тоже не является универсальным решением. В новой технологии, как и ранее, применяется экспонирование маски (шаблона микросхемы) в несколько проходов.

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями