Иммерсионная литография позволит удовлетворить более жесткие технические требования при производстве микропроцессоров и усовершенствовать процесс. Изоляционные материалы со сверхнизкой проницаемостью повысят удельную производительность на ватт. В иммерсионной литографии пространство между линзами литографической системы и кремниевой подложкой, содержащей сотни микропроцессоров, заполняется прозрачной жидкостью, что повышает разрешающую способность при переносе изображения шаблона. IBM и AMD начали совместную разработку в январе 2003 года. В ноябре 2005 года они объявили о расширении сотрудничества до 2011 года, включая разработку 32- и 22-нанометровых процессов.

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями