Отныне компании будут вместе вести фундаментальные исследования, в том числе в области поиска новых материалов для микросхем. До этого партнеры в течение нескольких лет работали над технологиями изготовления чипов, вплоть до 45-нанометровой. Условия нового соглашения предписывают продолжение сотрудничества до выработки методики производства микрослхем с топологическим размером элемента 32 нм. В Toshiba плодами исследований планируют воспользоваться для выпуска сверхбольших интегральных схем и памяти. Компания участвует еще в двух похожих сделках - с Sony и NEC Electronics, с которыми она работает над чипами с топологическим размером элемента 45 нм.

Служба новостей IDG, Токио

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями