По новому прогнозу SIA, к 2004 году появятся микросхемы с топологическим размером 90 нм, а к 2016 году - 22 нм. Для сравнения: в аналогичном документе SIA, опубликованном в 1999 году, говорилось, что к 2005 году топологический размер достигнет 100 нм, а к 2014 году - 35 нм. Уменьшение топологического размера элементов позволяет наращивать производительность процессоров, не увеличивая их потребляемую мощность. ITRS составляется по результатам консультаций с 800 специалистами из разных стран мира. До сих пор доклады SIA служили важнейшим инструментом планирования для большинства компаний полупроводниковой индустрии.

Служба новостей IDG, Сан-Франциско

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями