В состав консорциума входят компании Intel, Motorola, AMD, Micron Technology, Infineon Technologies и IBM, а также национальные лаборатории Лоуренса в Беркли, Лоуренса в Ливерморе и Сандия (в последней и установлен технический испытательный комплекс оборудования). Современная технология литографии позволяет формировать на кристалле элементы толщиной до 0,1 микрон. Члены консорциума убеждены, что EUV-технология позволит довести минимальный литографический размер до 0,03 мк, и что к 2006 году тактовая частота процессоров достигнет 10 ГГц. Работа над проектом идет уже около пяти лет; по словам одного из наблюдателей, в начале никто не верил в успех проекта. В настоящее время основные научные проблемы решены, но исследования еще далеко не окончены.

Служба новостей IDG, Сан-Франциско

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями