IBM совместно с японской компанией Nikon Corp. разработала новую технологию электронно-лучевой литографии, которая позволит уменьшить размеры элементов микросхемы. На опытной установке, работающей по этой технологии, уже получены первые образцы чипов с длиной каждого транзистора всего 0,08 микрон. Впрочем, это еще далеко от предельных возможностей новой технологии, которые соответствуют значению 0,035 микрон.

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями