Разработанная учеными технология изготовления пленок могла бы, в частности, в значительной степени снизить стоимость производства многих электронных устройств. Ранее получение кристаллических пленок оксидов было возможным лишь в вакууме при температуре около 980°С. Разработанный учеными процесс изготовления протекает при температуре всего около 120°С и не требует вакуума. Благодаря снижению температуры изготовления кристаллические пленки оксидов можно будет наносить на пластиковую основу, что позволит, например, размещать прозрачные электронные схемы на поверхности смарт-карт. Низкотемпературные кристаллические пленки также найдут применение в аккумуляторных батареях и в качестве антикоррозийных барьеров.

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями