Служба новостей IDG, Сингапур

Правительство Китая дало корпорации Intel разрешение на строительство завода по производству микросхем в Даляне. Сумма предполагаемых инвестиций составит 2,5 млрд. долл. Это завод станет первым заводом, который Intel построит в Китае. Он будет работать совместно со сборочными и испытательными предприятиями в Шанхае и Ченгду.

В сообщении Государственного комитета по делам развития и реформ Китая говорится, что Intel построит завод по производству интегральных схем, в том числе микропроцессоров, на 300-миллиметровых пластинах по 90-нанометровому технологическому процессу. Месячная производительность завода составит 52 тыс. пластин. Когда начнется строительство завода и когда он приступит к работе, пока не сообщается.

В Intel же от комментариев по поводу данного сообщения отказались. «Мы не делали и не собираемся делать никаких заявлений», — подчеркнул представитель корпорации Чак Маллой.

Если сообщение комитета соответствует действительности, строительство завода в Даляне можно считать крупным успехом правительства Китая: микроэлектронная промышленность объявлена одним из приоритетных направлений развития экономики страны.

Среди используемых Intel в настоящее время технологических процессов самым совершенным является 65-нанометровый. Начало производства схем по 45-нанометровому процессу планируется на вторую половину этого года. Переход к более совершенному технологическому процессу позволяет снизить стоимость производства микросхем, поскольку на одну кремниевую пластину можно уместить больше схем. Кроме того, более совершенные процессы позволяют повысить общую производительность и снизить затраты энергии.

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями