Белорусское НПО «Интеграл», к концу 2008 года введет в строй субмикронное производство интегральных микросхем с проектными нормами 350–500 нм. Проект реализуется на базе «Завода полупроводниковых приборов» в соответствии с Государственной программой инновационного развития на 2007–2010 годы. Выйти на проектную мощность планируется в 2010 году. Кроме того, в НПО подготовлен бизнес-план организации 180-нанометрового производства мощностью около 3 тыс. пластин диаметром 200 мм в месяц. На эти цели потребуется около 250 млн долл. Срок реализации проекта — три года, ожидаемый период окупаемости — пять лет. Между тем в России, благодаря совместным инвестициям «Ситроникс-Нанотехнологии» и государства в размере 58,4 млрд руб., в Зеленограде строится завод по производству интегральных микросхем на пластинах диаметром 300 мм с проектными нормами 45-65 нм. Планируемая мощность выпуска — 10 тыс. пластин в месяц, окупаемость инвестиций — десять лет.