Одновременное ускорение работы компьютерной микросхемы и уменьшение ее размеров дает большой скачок производительностиУченые из Массачусетского технологического института нашли способ с помощью нанотехнологий существенно уменьшить нормы проектирования компьютерных микросхем. Такие чипы будут компактнее, дешевле и мощнее существующих.

Новая технология даст возможность производить микросхемы с размером элементов в 25 нм. Это большой шаг вперед, если вспомнить, что только в прошлом году компания Intel перешла с 65-нанометрового технологического процесса на 45-нанометровый. 32-нанометровые процессоры в Intel планируют выпустить в 2009 году. А 25 нм — это еще на одну ступень ниже.

«Задача заключается в создании еще меньших элементов, — пояснил научный сотрудник МТИ Ральф Хейльманн. — Ядро интегральной схемы состоит из цепей и транзисторов — чем меньше они по размеру, тем быстрее они работают и тем большее число их можно разместить на одной схеме. Уменьшение позволяет одновременно сделать их и быстрее, и дешевле».

МТИ запатентовал данный способ и, по словам Хейльманна, некоторые производители (он не уточнил, кто именно) уже проявляют к нему интерес.

В технологии применяется наноуровневая литография, позволяющая нанести на микросхему еще более мелкую сетку линий, из которых складываются цепи схемы. В традиционном методе оптической литографии для переноса шаблона сетки на кремниевую пластину используется свет. Чтобы расположить линии сетки ближе друг к другу, производители микросхем пытались использовать более короткие длины волн. «Но у этого метода тоже есть свои пределы», — пояснил Хейльманн.

Исследователи из МТИ пошли по другому пути. Вначале они с помощью длинноволнового светового луча наносят на кремниевую пластину сетку с масштабом 200 нм. А затем тот же самый шаблон просто немного сдвигается, по нему наносятся новые линии, а пространство между ними делится пополам. Процесс повторяется несколько раз, и масштаб сетки доводится до 25 нм.

Такой способ позволяет в четыре раза повысить плотность расположения линий шаблона и разместить на схеме в четыре раза больше элементов — проводников, транзисторов и так далее.

«Одновременное ускорение работы компьютерной микросхемы и уменьшение ее размеров дает большой скачок производительности, — заявил главный аналитик фирмы Gabriel Consulting Group Дэн Олдс. — С точки зрения стоимости и результатов этот способ уменьшения нормы проектирования микросхем за пределы 32 нм работает вроде бы неплохо... и это очень интересная разработка с далеко идущими последствиями. Главное, что их метод работает на переднем крае — менее 45 нм, а не просто удешевляет производство уже существующих микросхем».