Служба новостей IDG, Сингапур

Корпорация Intel все-таки построит завод в Китае

Под давлением AMD, планирующей переход на технологический процесс 65 нм к концу текущего года, корпорация Intel намерена увеличить темпы ввода в действие еще более современных технологий, чтобы как можно дальше оторваться от конкурентаПрезидент и генеральный директор Intel Пол Отеллини подтвердил, что корпорация планирует построить в Китае завод по производству микросхем. Сумма инвестиций в этот проект составит 2,5 млрд. долл. Завод будет построен в городе Даляне, на северо-восточном побережье Китая. Выпуск продукции должен начаться в первой половине 2010 года.

Руководство Intel надеется, что завод в Даляне, на котором на первом этапе будет развернуто производство чипсетов, поможет корпорации снизить себестоимость производства. «Один из уроков, которые мы хотели бы вынести из Китая, заключается в том, чтобы понять, как этой стране удается наладить очень дешевое производство», — сообщил Отеллини на пресс-конференции в Пекине.

Действительно, стоимость рабочей силы в Китае ниже, чем в США и других развитых странах, но на нее приходится лишь часть затрат. Большую часть расходов занимает закупка дорогостоящего оборудования и механизмов. «Затраты капитала на эти цели приблизительно одинаковы в любой стране мира, — отметил Отеллини. — Основную роль в принятии этого решения сыграли финансовые мотивы и поддержка китайского правительства».

Строительство нового завода в Даляне, которому присвоено кодовое наименование Fab 68, начнется уже в текущем году. Инвестиции в его строительство станут самым крупным капиталовложением иностранной компании в северо-восточную часть Китая — область, на которой довольно сильно отразился спад, наблюдавшийся в течение последнего десятилетия в государственном секторе тяжелой промышленности. Правда, Далянь, считающийся центром разработки программного обеспечения и аутсорсинга, этот спад затронул в меньшей степени.

Долгожданное объявление о строительстве завода в Даляне стало своеобразным призом для китайского правительства, которое на протяжении многих лет уговаривало высшее руководство Intel разместить свои производственные мощности в Китае и создать в стране центр электронной промышленности. Впрочем, предполагается, что на заводе в Даляне будут развернуты далеко не самые передовые производственные мощности.

В настоящее время у Intel имеется экспортная лицензия правительства США на право использования в 2009 году производственной технологии с нормой проектирования 90 нм. По мере совершенствования технологий в Intel надеются получить лицензию на производство с нормой проектирования 65 нм, которое можно будет развернуть на заводе в Даляне в 2010 году.

В настоящее время технология 90 нм уже отстает на одно поколение от нормы проектирования 65 нм, которая применяется Intel в текущий момент. Под давлением AMD, планирующей переход на технологический процесс 65 нм к концу текущего года, корпорация Intel намерена увеличить темпы ввода в действие еще более современных технологий в надежде как можно дальше оторваться от конкурента.

Микроны не сдаются

Совершенствование процессной технологии в общем случае позволяет наладить производство электронной техники, которая работает быстрее и потребляет меньше электроэнергии. В конце текущего года корпорация Intel начнет производство микросхем на основе процесса с нормой проектирования 45 нм, к 2009 году планируется переход на производственный процесс 32 нм, а к 2011-му — на норму проектирования 23 нм. Как утверждают в Intel, цель заключается в том, чтобы внедрять более совершенную технологию через каждые два года.

Это означает, что запланированный к строительству в Даляне завод к моменту начала выпуска коммерческой продукции будет отставать от современных технологий уже на два-три поколения.

Впрочем, и старые производственные технологии оказываются востребованными. Хотя на большинстве фабрик Intel используются самые современные технологии, у корпорации есть предприятия, на которых норма проектирования до сих пор измеряется не в нанометрах, а в микронах — миллионных частях метра.

К примеру, один из заводов Intel, расположенный в городе Лейкслипе в Ирландии, и сегодня продолжает выпускать наборы логических схем и флэш-память на основе старой технологии с нормой проектирования 0,13, 0,18, 0,25 и 0,35 микрона. А фабрика компании в Иерусалиме производит логические схемы и микроэлектромеханические системы (Micro-Electrical Mechanical System, MEMS) по технологиям 0,35, 0,5, 0,7 и 1 микрон.

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями