Руководство Intel надеется, что завод в Даляне, на котором на первом этапе будет развернуто производство чипсетов, а не флагманских микропроцессоров, поможет компании снизить себестоимость производства. "Один из уроков, которые мы хотели бы вынести из Китая, заключается в том, чтобы понять, как этой стране удается наладить очень дешевое производство", - сообщил Отеллини на пресс-конференции в Пекине. 

 

Действительно, стоимость рабочей силы в Китае ниже, чем в США и других развитых странах, но на нее приходится лишь часть затрат на строительство нового завода. Большую часть расходов занимает закупка дорогостоящего оборудования и механизмов. "Затраты капитала на эти цели приблизительно одинаковы в любой стране мира, - отметил Отеллини. - Основную роль в принятии нами своего решения сыграли финансовые мотивы и поддержка китайского правительства".

 

"Цель Intel заключается в том, чтобы извлечь выгоду из предлагаемых нам китайским правительством стимулов и запустить завод с наибольшей эффективностью, добившись минимально возможной стоимости производства", - подчеркнул пресс-секретарь компании Чак Маллоу.

 

Ложка дегтя

 

Строительство нового завода в Даляне, которому присвоено кодовое наименование Fab 68, начнется уже в текущем году. Инвестиции в его строительство станут самым крупным капиталовложением иностранной компании в северо-восточную часть Китая - область, на которой довольно сильно отразился спад, наблюдавшийся в течение последнего десятилетия в государственном секторе тяжелой промышленности. Правда, Далянь, считающийся центром разработки программного обеспечения и аутсорсинга, этот спад затронул в меньшей степени.

 

Долгожданное объявление о строительстве завода в Даляне стало своеобразным призом для китайского правительства, которое на протяжении многих лет уговаривало высшее руководство Intel разместить свои производственные мощности в Китае и создать в стране центр электронной промышленности. Впрочем, предполагается, что на заводе в Даляне будут развернуты далеко не самые передовые производственные мощности.

 

В настоящее время у Intel имеется экспортная лицензия правительства США на право использования в 2009 году производственной технологии с нормой проектирования 90 нм. По мере совершенствования технологий представители Intel надеются получить лицензию на производство с нормой проектирования 65 нм, которое и можно будет развернуть на заводе в Даляне в 2010 году.

 

Правительство США тщательно регулирует передачу электронных технологий в Китай и другие страны, опасаясь ее применения в военных целях.

 

В настоящее время технология 90 нм уже отстает на одно поколение от нормы проектирования 65 нм, которая применяется Intel в текущий момент. Под давлением AMD, планирующей переход на технологический процесс 65 нм к концу текущего года, корпорация Intel намерена увеличить темпы ввода в действие современных технологий в надежде как можно дальше оторваться от конкурента.

Процессные технологии характеризуются размерами некой усредненной величины - измеряемой в нанометрах или миллиардных частях метра, - которая помогает определить ключевые характеристики чипа.

 

Микроны не сдаются

 

Совершенствование процессной технологии в общем случае позволяет наладить производство электронной техники, которая работает быстрее и потребляет меньше электроэнергии. Кроме того, можно уменьшить размеры чипа, сократить стоимость производства устройств и добиться повышения прибыли, получаемой в результате их продажи. Если размеры чипа остаются неизменными, более совершенная технология помогает освободить пространство для дополнительных возможностей - например, для увеличения объема кэш-памяти, оказывающей непосредственное влияние на производительность.

 

В конце текущего года корпорация Intel начнет производство чипов на основе процесса с нормой проектирования 45 нм, к 2009 году планируется переход на производственный процесс 32 нм, а к 2011-му - на норму проектирования 23 нм. По словам руководителей Intel,  цель заключается в том, чтобы внедрять более совершенную технологию через каждые два года.

Это означает, что запланированный к строительству в Даляне завод к моменту начала выпуска коммерческой продукции будет отставать от современных технологий уже на два-три поколения.

 

Впрочем, и старые производственные технологии оказываются востребованными. Хотя на большинстве фабрик Intel используются самые современные технологии, у корпорации есть предприятия, на которых норма проектирования до сих пор измеряется не в нанометрах, а в микронах - миллионных частях метра.

К примеру, один из заводов Intel, расположенный в городе Лейкслипе в Ирландии, и сегодня продолжает выпускать наборы логических схем и флэш-память на основе старой технологии с нормой проектирования 0,13, 0,18, 0,25 и 0,35 микрон. А фабрика компании в Иерусалиме производит логические чипы и микроэлектромеханические системы (Micro-Electrical Mechanical Systems, MEMS) по технологиям 0,35, 0,5, 0,7 и 1 микрон.

 

Технологический процесс с нормой проектирования 1 микрон используется корпорацией Intel, начиная с 1989 года. Именно тогда был выпущен процессор 386 DX с тактовой частотой 33 МГц. Сегодня по технологии в 1 микрон изготавливается встроенный процессор 186, функционирующий на частоте 25 МГц. Он представляет собой расширенную версию чипа, представленного в 1982 году и по-прежнему находящего применение в приложениях для контроллеров.

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями