Правительство Китая дало компании Intel разрешение на строительство завода по производству микросхем в Даляне (город на северо-восточном побережье страны). Сумма инвестиций составит 2,5 млрд. долл.
Это завод станет первым заводом, который Intel построит в Китае. Он будет работать совместно со сборочными и испытательными предприятиями в Шанхае и Ченгду (город в юго-западной части Китая).
В сообщении Государственного комитета по делам развития и реформ Китая (NDRC) говорится, что Intel построит завод по производству интегральных схем, в том числе процессоров, на 300-миллиметровых пластинах по 90-нанометровому технологическому процессу. Месячная производительность завода составит 52 тыс. пластин. Когда начнется строительство завода и когда он приступит к работе, комитет пока не сообщает.
Intel же от комментариев по поводу сообщения комитета отказалась. «Мы не делали и не собираемся делать никаких заявлений», - подчеркнул представитель корпорации Чак Маллой.
Если сообщение комитета соответствует действительности, строительство завода в Даляне можно считать крупным успехом правительства Китая: микроэлектронная промышленность объявлена одним из приоритетных направлений развития экономики страны.
Среди используемых Intel в настоящее время технологических процессов самым совершенным является 65-нанометровый. Начало производства схем по 45-нанометровому процессу планируется на вторую половину этого года. Переход к более совершенному технологическому процессу позволяет снизить стоимость производства микросхем, поскольку на одну кремниевую пластину можно уместить больше схем. Кроме того, более совершенные процессы позволяют повысить общую производительность и снизить затраты энергии.