Согласно прогнозу Международного комитета по тенденциям развития полупроводниковой промышленности, технология изготовления микросхем со столь малым топологическим размером элемента может быть получена лишь через пять лет, однако возможно, что после доклада исследователей, запланированного на ближайшее время, намеченный срок будет скорректирован. Это методику ученые называют «литографией исчезающих волн», она представляет собой модифицированный вариант иммерсионной литографии.

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями