могла бы, в частности, в значительной степени снизить стоимость изготовления пленок. Ранее получение кристаллических пленок оксидов было возможным лишь в вакууме при температуре около 980 ?C. Новый процесс изготовления протекает при температуре всего около 120 ?C и не требует вакуума. Благодаря снижению температуры изготовления кристаллические пленки оксидов можно будет наносить на пластиковую основу, что позволит, например, размещать прозрачные электронные схемы на поверхности смарт-карт.

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями