NEC намерена в середине 2001 года представить микросхемы, изготовленные по новой технологии
Об этом сообщил Кеиши Шимакура, заместитель президента подразделения электронных устройств корпорации NEC в своем интервью службе новостей IDG.
Выпуск первых образцов (в данном случае они появятся примерно через месяц), как правило, опережает начало массового коммерческого производства на 6 - 10 месяцев. В NEC предполагают распространить среди своих основных заказчиков опытные образцы интегральных схем, в том числе микропроцессоров, с целью получить их отзывы и дать им понять, каким именно образом лучше всего использовать эту технологию в их бизнесе.
Выраженное в микронах число в названии технологии означает наименьшее расстояние между элементами на поверхности печатной платы; в настоящее время самой передовой на рынке является технология производства на 0,13 мкм. Следующим этапом в развитии полупроводниковых технологий станет освоение производственных процессов на 0,11 мкм или 0,10 мкм, а для будущего поколения микропроцессоров этот показатель должен сократиться до 0,08 мкм. Каждое усовершенствование процесса изготовления микросхем позволяет уменьшить их в размере и увеличить их скорость.
NEC начала производство микросхем по 0,13-микронной технологии в начале этого года, когда открыла новую производственную линию на своей фабрике в префектуре Ямагата на севере Японии. Теперь, как отметил президент NEC Коджи Нишигаки, корпорация планирует модернизировать производство на этой фабрике с тем, чтобы перевести его на 0,10-микронную технологию.
Инвестируя в развитие технологии на 0,10 мкм с целью в течение нескольких месяцев довести ее до уровня коммерческого производства, NEC одновременно стремится сделать технологию на 0,13 мкм к началу 2001 года стандартной производственной технологией во всей корпорации.