Этот центр по разработке технологий будет работать над созданием технической базы и организации процессов производства фотомасок, необходимых для изготовления полупроводниковых устройств, имеющих размер 0,18 мкм или меньше.

Большая часть современных интегральных схем создана с использованием технологий на 0,5 и 0,35 мкм; сейчас начинается массовый выпуск комплектующих, произведенных на основе технологии на 0,25 мкм.

Фотомаски - это кварцевые пластины высокой чистоты, которые содержат точное изображение интегральных схем. Они применяются для нанесения шаблонов изображений интегральных схем на кpемниевые подложки.

Технология фотомасок приобретает все более важное значение в производстве полупроводников, по мере того как размеры полупроводниковых устройств продолжают сокращаться. Как пассивное средство передачи изображений, фотомаски теперь используют модернизированную технологию сдвига фаз и оптической коррекции соответствия для обеспечения требуемого уровня точности.

"Создание RTC является важной составляющей стратегии DPI, позволяющей поставлять нашим потребителям фотомаски, необходимые для перехода с архитектуры на 0,35 мкм на архитектуру на 0,18 мкм и даже меньше", - сказал Пол Чипмен, старший менеджер RTC.

"Мы предполагаем, что инновационная работа, проделанная в RTC, приведет к значительным сокращениям стоимости основных фондов и других производственных затрат, - подчеркнул Уильям Сигл, вице-президент компании AMD. - Эта инициатива, кроме того, экономически эффективна, поскольку финансирование разработок ведется совместно четырьмя независимыми компаниями".

Здание Reticle Technology Center площадью более 1,5 тыс. м2 расположено в городе Раунд Рок (шт. Техас). В RTC имеется цех сверхчистого производства площадью свыше 500 кв. метров; здесь на первом этапе будет работать около 40 человек.

Поделитесь материалом с коллегами и друзьями